一、氢气还原炉用途
氢气还原炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉 末冶金、纳米材料、荧光粉 的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉 体材料的真空气氛处理，材料在还原、惰性气氛环境下进行烧结。
二、氢气还原炉特点
1、控制精度：±1℃ 炉温均匀度：±1℃(根据加热室大小而定) 。
2、微电脑控制，操作方便，可编程，自动升温、自动保温、自动降温。
3、炉管采用刚玉99陶瓷。
4、不锈钢金属法兰密封（双胶圈）
5、炉体温度接近室温
6、双回路保护
7、进口耐火材料，保温性能好，耐温高
8、最大真空度 -0.1mpa
9、可通多种气体（氧气、氮气、氩气、氢气等）
10、温度类别：1000℃ 1200℃ 1400℃ 三种
三、氢气还原炉参数型号炉膛尺寸（mm）d×w×h功率（kw）最高温度℃额定温度℃加热元件电压升温速率tdrg1400-20200×150×15051400℃1300℃硅碳棒220v≤20℃/mintdrg1400-30300×200×20071400℃1300℃硅碳棒220v≤20℃/mintdrg1400-30a300×250×25081400℃1300℃硅碳棒380v≤20℃/mintdrg1400-40400×300×300121400℃1300℃硅碳棒380v≤20℃/min
注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！
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